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產品詳情
  • 產品名稱:可程控磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:CY-PLC
  • 產品廠商:成越科儀
  • 產品文檔:
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簡單介紹:
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結構,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統、安裝機臺、真空測量、水冷卻及報警系統和控制系統等組成。可程控磁控濺射鍍膜儀
詳情介紹:

可程控磁控濺射鍍膜儀由工控機和PLC實現控制,有自動和手動控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過程全部在觸摸屏上實現;提供真空系統、濺射工藝設置、充放氣系統等人機操作界面;在工控機上可通過配方設置參數,實現對程序工藝過程和設備參數的設置。

可程控磁控濺射鍍膜儀設備用途:

該產品可廣泛應用于半導體、LED和光伏等行業,主要用于各種金屬、半導體及介質材料的薄膜制備,可滿足科研兼小批量生產需要。

可程控磁控濺射鍍膜儀技術參數:


濺射室極限真空

8.0×10-6Pa

恢復真空時間

系統從大氣抽至1.0×10-3 Pa15min

均勻性

膜厚不均勻性≤±5%;片間不均勻性≤±5%;批次間不均勻性≤±5%

濺射真空室

圓筒形結構,尺寸Ф800mm×250mm

磁控濺射系統

永磁靶4支,靶材尺寸6英寸;

1臺進口電源(射頻或直流脈沖可選);

濺射速率:0.55/秒(靶材Al

公轉基片臺

6英寸6片,(4英寸12片或3英寸16片);

基片公轉315/分,連續可調,可選配公自轉復合工件臺

光加熱系統

樣品加熱溫度:室溫~250℃,連續可調;

基片溫度不均勻性:≤±10℃;

控溫方式為PID自動控溫及數字顯示,配備進口控溫表

工作氣路

2路質量流量控制器氣路

抽氣機組成

低溫泵(進口)、羅茨干泵機組、氣動閘板閥(進口)、管路等

真空測量

2個真空計(進口)對系統真空、工作真空及前級真空進行**檢測;真空度在工控機觸膜屏上可直觀顯示;可準確監控濺射鍍膜工藝過程的真空度

控制系統

系統由工控機(觸摸屏)和進口PLC實現對整個系統的控制

占地面積

主機

1500×1000mm2

電控柜

700×700mm2(一個)

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