- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實(shí)驗室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
1200型單溫區(qū)石墨烯制備管式爐主要用于CVD法制備石墨烯；也可廣泛用于各種反應(yīng)溫度在1100℃左右的CVD實(shí)驗、真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備等多個研究領(lǐng)域。
主要特點(diǎn)：
1、該爐體采用上下“分-體”式結(jié)構(gòu)，內(nèi)部設(shè)計有對流柵格，內(nèi)部氣流容易形成
2、采用雙層內(nèi)膽式爐膛結(jié)構(gòu)，中間有氣隙隔離，科學(xué)合理，爐殼溫度較低，使
3、加熱元件呈圓周狀軸向均勻分布，發(fā)熱元件內(nèi)嵌固化在爐襯里，加熱時不會
4、還可以利用該設(shè)備的爐體可以在水平軌道上來回移動的方法，實(shí)現(xiàn)快速降溫，
1200型單溫區(qū)石墨烯制備管式爐技術(shù)參數(shù)
|
產(chǎn)品名稱 |
1200型單溫區(qū)石墨烯制備管式爐 |
|
常規(guī)型號 |
CY-O1200-50MIL |
|
CY-O1200-60MIL |
|
|
CY-O1200-80MIIL |
|
|
CY-O1200-100MIL |
|
|
爐膛模式 |
開啟式 |
|
顯示模式 |
高亮數(shù)碼管顯示(LED) |
|
爐膛材料 |
進(jìn)口纖維 |
|
加熱元件 |
進(jìn)口合金加熱絲 |
|
極限溫度 |
1200℃ |
|
工作溫度 |
≤1150℃ |
|
升溫速率 |
≤20℃(建議:10℃/min) |
|
加熱溫區(qū) |
單溫區(qū) |
|
溫區(qū)長度 |
440mm |
|
恒溫區(qū)長 |
200mm |
|
爐管材質(zhì) |
高純石英 |
|
爐管常規(guī)直徑 |
50mm |
|
60mm |
|
|
80mm |
|
|
100mm |
|
|
爐管長度 |
1400mm |
|
密封方式 |
不銹鋼真空法蘭 |
|
氣 密 性 |
真空法蘭和石英爐管的氣密性*高可達(dá)4.03×10-3Pa |
|
控制模式 |
智能PID多段程序控溫 |
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
溫度曲線 |
多段"時間—溫度曲線"任意可設(shè) |
|
預(yù)存曲線 |
可預(yù)存多條溫度曲線 |
|
電流監(jiān)控 |
高亮LED指示燈 |
|
超溫報警 |
有 |
|
過流保護(hù) |
有 |
|
斷偶提示 |
有 |
|
測溫元件 |
K型熱電偶 |
|
電氣認(rèn)證 |
CE認(rèn)證 |
|
供電電源 |
AC:220V 50Hz～60Hz |
|
整機(jī)功率 |
2.5KW |
|
售后服務(wù) |
一年質(zhì)保，終身保修 |
|
包裝形式 |
多層膠合板包裝箱，包裝箱不回收 |
|
隨機(jī)配件 |
石英爐管、真空法蘭、爐管堵塞、O型密封圈、防護(hù)手套、坩堝爐鉤、說明書。 |
