產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
新聞詳情
磁控濺射鍍膜儀基本介紹
日期：2025-05-01 10:50
瀏覽次數：664
摘要：
磁控濺射鍍膜儀基本介紹
磁控濺射鍍膜儀是一種用于化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的工藝試驗儀器，于2006年12月30日啟用。
磁控濺射鍍膜儀是一種用于化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的工藝試驗儀器，于2006年12月30日啟用。
技術指標
1、磁控濺射鍍膜儀主真空室的本底真空優于2×10－8Torr；2、四英寸的基片范圍內薄膜厚度均勻性優于±2％；3、可以濺射磁性和非磁性金屬、進行直流和射頻濺射；4、基片可以加熱（800℃）、冷卻（水冷）；5、全自動控制；6、18英寸主濺射室；7、高真空泵抽系統；8、超高真空磁控濺射靶；直流/射頻電源；9、4英寸樣品臺；10、PhaseII-J控制系統。
主要功能
磁控濺射鍍膜儀納米磁性薄膜制備設備，可以制備納米磁性薄膜，能加熱，共五個靶位。
尊敬的客戶：
